项目名称：杭州未来科技城195号地块

建设单位：杭州未来科技城资产管理有限公司

功能用途：公建（商务办公及商业）

设计年份：2021

建设地点：项目用地位于余杭区仓前街道，东至宝瑞巷，南至联创街，西至良睦路，北至余杭塘路。

总建筑面积：21.36万平方米

总建筑高度/层数：120M/ 27F

结构形式：框架

项目概述：本次设计主要功能分为商务办公、商业和会议中心三大功能区块。经过对用地和建筑功能的分析，设计采用传统建筑设计中的围合理念将整体建筑布局成回字形状。商务办公设计成4幢高层设置在基地的四角，其中两幢18层高层办公设计在用地的东南和西南角，两幢27层（120m限高）超高层办公设计在西北和东北角。北侧两幢办公之间通过平台、会议中心连通围合，其他三面用过商业连通围合。方案中通过竖向高度的设计，将室外地坪，大平台、下沉庭院、架空平台统一组合形成立体人行交通、景观体系。